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HANDS-ON WORKSHOP

Low-kV imaging 핸즈온 워크샵

직접 경험하는 ZEISS GeminiSEM
자이스 코리아 이노베이션 센터 (동탄)
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  • ZEISS GeminiSEM 2분 요약

저전압 이미징을 직접 확인하세요!

High resolution imaging of Mesoporous silica nanomaterials at 500V without sample coating or stage biasing.

True surface imaging with low kV

Tungsten Nickel Iron Alloy: EsB detector for BSE image with compositional contrast.

Material contrast with EsB

Magnetite nanomaterials imaged at 1kV and WD of 0.9mm.

Logic device for voltage contrast

Customer samples

제목

Low-kV imaging, 직접 경험하는 ZEISS GeminiSEM

동탄 자이스 코리아 이노베이션 센터에서 진행되는 핸즈온 워크샵에 지금 바로 신청하세요!

ZEISS에서 준비한 샘플부터 여러분의 샘플까지 저전압 이미징을 직접 확인하세요!

  • 10 mins | Intro
  • 20 mins | True surface imaging with low kV
  • 15 mins | Material contrast with EsB
  • 15 mins | Logic device for voltage contrast
  • 15 mins | Break
  • 45 mins | Customer samples

* 모든 일정의 세션은 상기 동일한 컨텐츠로 진행됩니다.
* 세션당 정원 인원이 초과될 경우, 선착순으로 다른 세션으로 조정될 수 있음을 알려드립니다.

발표자 YuNa, Lee ZEISS Korea 현미경 솔루션 사업부

Product Application Sales Specialist

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