ZEISS FE-SEM
반도체 패키지 분석의 새로운 인사이트
패키지 구조가 3차원으로 전환되면서 상호 연결 크기는 줄어들고 재료의 복잡성은 증가했습니다. 그에 따라 공정 개발 및 분석 과정은 수많은 어려움 앞에 놓이게 되었죠.
이러한 변화에 맞춰 ZEISS FE-SEM 솔루션은 해상도 향상 뿐만 아니라 차세대 디바이스의 복잡성 또한 지원하는 고장 분석 기술을 제공합니다.
MCS 랩의 ZEISS FE-SEM을 활용한 포렌식 분석
넓은 FOV에서도 왜곡 없는 높은 픽셀 해상도 이미징
향상된 이미징을 위해 ZEISS의 FE-SEM Gemini Optic을 사용하세요
최대 32K x 24K의 높은 픽셀 해상도를 활용하면 ROI의 개요와 흐름을 유지하면서 미세한 디테일까지 이미징할 수 있습니다.
Gemini Optic은 첨단 패키징에서 비전도성 및 빛에 민감한 소프트 폴리머를 이미징하는데 필수적으로 필요한 이머전 옵틱이나 스테이지 바이어스 없이 탁월한 저전압 이미징을 제공합니다.
진보된 검출기를 통한
탁월한 소재 및 위상차 대비
Through-Silicon Vias (TSV)부터 Cu-Cu 결합물, 솔더 재료, 금속 화합물(IMC) 층, 혹은 와이어 결합물 등을 검사할 때, 진보된 검출기를 장착한 Gemini column은 탁월한 이미징 성능을 보여줍니다.
뛰어난 위상 및 채널링 대비를 통해 고장 분석과 공정 특성화를 위한 인사이트를 얻으실 수 있을 거예요.
독보적인 안정성과 사용 편의성
가속 전압을 전환하는 동안에도 완벽하게 유지되는 초점
ZEISS FE-SEM은 가속 전압을 조정하는 동안에도 초점을 쉽게 유지할 수 있도록 설계되었습니다. 오른쪽의 무편집 영상은 실제로 15kV에서 20V로의 자연스러운 전환을 촬영한 것으로, 밝기와 대비를 제외하고는 수동 정렬이나 조정 없이도 일관되고 선명히 초점이 유지되는 것을 보여줍니다.
일관된 초점 유지는 고품질 이미지 촬영에 필요한 시간과 노력을 줄여 워크플로우를 간소화하고 새로운 차원의 효율성과 생산성의 실현이라는 결과로 이어집니다.
고해상도 이미징을 위한 빔 슬리브 및 VP 모드
연질 및 비전도성 샘플에 대한 정확한 EDS 분석
ZEISS FE-SEM은 빔 슬리브와 가변 압력(VP) 이미징 모드를 통합하여 광범위한 시료 전처리 없이 비전도성 및 연성 물질의 해상도와 분석을 향상시킵니다.
빔 슬리브는 저진공 영역을 통과하는 빔 경로를 최소화하여 고해상도 이미징 및 에너지 분산형 X-선 분광법(EDS) 분석을 위한 signal-to -noise를 개선하고, 차징과 빔으로 인한 손상을 더욱 감소시킵니다.
몽타주 이미징과 연계 분석 워크플로우
자동화된 ROI 획득
ZEISS FE-SEM의 자동 이미지 획득 기능을 통해 대면적 이미징 워크플로우를 개선하여, 여러 ROI와 샘플에 걸쳐 이미징 프로세스를 간소화하고 자동화할 수 있습니다.
이 강력한 기능 덕분에 직접 이미징에 개입할 필요가 없어졌고 넓은 영역에 대한 효율적인 이미징이 가능해졌습니다. 또한 ZEISS 현미경 연계 분석 워크플로우를 사용하면 여러 모드와 광학 현미경, 2D X선 현미경 등 다양한 시스템에서 획득한 데이터를 원활하게 조합하여 특정 ROI를 쉽게 획득할 수 있습니다.
다양한 이미징 기술 전반의 데이터를 통합하여 샘플을 포괄적으로 이해하고, 보다 정확한 분석과 통찰력 있는 결과를 얻으세요.
포트가 있는 대형 챔버와 EDS에 최적화된 구조
EBSD를 위해 이머전이 필요 없는 Optics
대형 챔버는 180도 EDS 수집 및 EBSD 분석을 위해 여러 포트로 최적화되어 있습니다. Gemini column은 저전류 모드와 고전류 모드 간 빠른 전환이 가능하며 이머전이 필요 없는 optics 덕분에 아티팩트나 결함 없이 분석 작업에 쉽게 활용할 수 있습니다.
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최첨단 전자 패키지 분석
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