![ZEISS Crossbeam ZEISS Crossbeam - FIB-SEM for High Throughput 3D Analysis and Sample Preparation]({"xsmall":"https://www.zeiss.co.kr/content/dam/rms/reference-master/products/electron-ion/fib-sem/crossbeam/crossbeam-laser_femtosecond_full-system.jpg/_jcr_content/renditions/original.image_file.100.100.420,0,1500,1080.file/crossbeam-laser_femtosecond_full-system.jpg","small":"https://www.zeiss.co.kr/content/dam/rms/reference-master/products/electron-ion/fib-sem/crossbeam/crossbeam-laser_femtosecond_full-system.jpg/_jcr_content/renditions/original.image_file.360.360.420,0,1500,1080.file/crossbeam-laser_femtosecond_full-system.jpg","medium":"https://www.zeiss.co.kr/content/dam/rms/reference-master/products/electron-ion/fib-sem/crossbeam/crossbeam-laser_femtosecond_full-system.jpg/_jcr_content/renditions/original.image_file.768.768.420,0,1500,1080.file/crossbeam-laser_femtosecond_full-system.jpg","large":"https://www.zeiss.co.kr/content/dam/rms/reference-master/products/electron-ion/fib-sem/crossbeam/crossbeam-laser_femtosecond_full-system.jpg/_jcr_content/renditions/original.image_file.1024.1024.420,0,1500,1080.file/crossbeam-laser_femtosecond_full-system.jpg","xlarge":"https://www.zeiss.co.kr/content/dam/rms/reference-master/products/electron-ion/fib-sem/crossbeam/crossbeam-laser_femtosecond_full-system.jpg/_jcr_content/renditions/original.image_file.1080.1080.420,0,1500,1080.file/crossbeam-laser_femtosecond_full-system.jpg","xxlarge":"https://www.zeiss.co.kr/content/dam/rms/reference-master/products/electron-ion/fib-sem/crossbeam/crossbeam-laser_femtosecond_full-system.jpg/_jcr_content/renditions/original.image_file.1080.1080.420,0,1500,1080.file/crossbeam-laser_femtosecond_full-system.jpg","max":"https://www.zeiss.co.kr/content/dam/rms/reference-master/products/electron-ion/fib-sem/crossbeam/crossbeam-laser_femtosecond_full-system.jpg/_jcr_content/renditions/original.image_file.1080.1080.420,0,1500,1080.file/crossbeam-laser_femtosecond_full-system.jpg"})
ZEISS Crossbeam Laser
높은 처리량의 샘플 준비와 나노스케일 이미징을 위한 FIB-SEM
FIB-SEM과 초고속 레이저의 동시 발전은 반도체 기기 및 패키지의 샘플 준비, 특성화, 고장 분석을 급진적으로 변화시켰습니다.
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초고속 레이저를 이용한 물질 제거
더욱 효율적인 샘플 준비
ZEISS Crossbeam FIB-SEM에 펨토초 레이저를 더하면 물질 제거 속도가 초당 15 µm³까지 향상됩니다.
펨토초 레이저의 극도로 짧은 펄스 지속 시간 덕분에 열 영향 영역을 최소화하여 시료 전처리가 효율적입니다.
결국 아티팩트 없이 시료 전처리 시간을 며칠 또는 몇 시간에서 몇 분으로 단축할 수 있죠. 레이저 전처리는 탄화규소 및 유리를 포함한 여러 재료에 적합합니다.
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큰 볼륨에서도 오염 없는 밀링
분리형 레이저 챔버 및 크로스젯(Cross-Jet)
이제 패키지 내부 수 밀리미터 깊이에 매립된 구조에 접근하여 밀리미터 사이즈 큐브의 제거가 일상적으로 가능해져 전체 커패시터의 큰 단면, 금속 뚜껑을 통한 TIM 인터페이스 등을 촬영할 수 있습니다.
분리형 레이저 챔버는 절제 오염 물질을 메인 이미징 챔버에서 분리하여 유지보수 비용을 낮추면서 최고 해상도의 이미징 기능을 유지합니다.
질소 또는 아르곤 가스 흐름인 새로운 크로스젯(Cross-Jet)은 절제된 물질이 보호 유리에 쌓이는 것을 방지합니다. 덕분에 레이저 출력과 절제 속도를 일정하게 유지하면서 몇 시간 동안 연속 작업을 진행할 수 있는 것이죠.
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정확도와 생산성을 위한 자동화
멀티 ROI 타겟팅과 단면 섹션 준비
별도의 챔버에서 자동화된 셔틀링 및 레이저 처리를 통해 시간을 절약하고 처리량을 늘릴 수 있으며 스크립팅을 통해 자동화된 워크플로우를 생성하여 실험의 효율성을 높일 수 있습니다.
여러 ROI를 타겟팅하고 단면 섹션, H 바, TEM 라멜라 전처리 및 아톰 프로브 단층 촬영 샘플의 준비를 자동화할 수 있습니다.
마이크로 스케일 정확도 달성
ZEISS Crossbeam Laser 활용
ZEISS Crossbeam laser 는 별도의 챔버에서 보정된 레이저 포지셔닝을 활용한 정밀 타겟팅을 통해 샘플 전처리를 진행합니다.
메인 챔버에서 3D X선 데이터 및 SEM 이미징을 통해 등록된 표면 특징과 결합하면 반도체 패키지에 깊숙이 묻혀 있는 표면 및 숨겨진 결함을 2 마이크론 이상의 정확도로 표적화할 수 있습니다. 이를 통해 다른 기존 기술에 비해 높은 처리량의 표적화된 샘플 준비가 가능합니다.
ZEISS Crossbeam Laser를 활용한 워크플로우
가이드 워크플로우를 통해 레이저, TEM 라멜라 전처리 및 Cryo 연계 분석 워크플로우를 최적화하는 방법을 알아보세요
ZEISS Crossbeam Laser 워크플로우
깊숙이 묻혀 있는 ROI에 빠르게 접근, 여러 스케일에 걸쳐 연계 분석 워크플로우를 실행하고 큰 볼륨 분석을 통해 더 나은 샘플 대표성을 확보하세요. EDS, EBSD 등과 같은 3D 이미징 및 분석 또한 수행하세요. 이제 반자동 시스템을 통해 시간을 절약하고 처리량을 더욱 높일 수 있습니다.
ZEISS Crossbeam Laser에 펨토초 레이저를 더하면 부위별 초고속 샘플 전처리의 이점을 누릴 수 있습니다. 필요한 경우 반자동 워크플로우를 통해 FIB-SEM 챔버를 청결하게 유지하고 시스템을 원격으로도 작동하세요.
아래와 같은 이점을 누리세요:
- 깊숙이 묻혀 있는 구조에 빠르게 접근
- 진공 환경 제어를 통해 펨토초 레이저 펄스로 인한 손상 및 열 영향 영역 최소화
- 전용 통합 챔버에서의 레이저 작업 수행을 통한 FIB-SEM 메인 챔버와 검출기 청결 유지
- 레이저 처리, 폴리싱, 세척 및 FIB 챔버로의 이동 차동화
- TEM 라멜라를 통한 단면 섹션부터 배열까지 여러 샘플 준비 및 다양한 재료에 대해 사전 설치된 레시피를 활용하는 효율적인 작업 환경
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고급 패키징 고장 분석을 위한 연계 분석 워크플로우 다운로드
더욱 효율적인 샘플 전처리
ZEISS Crossbeam FIB-SEM에 펨토초 레이저를 더하면 물질 제거 속도가 초당 최대 15 µm³까지 향상됩니다.
펨토초 레이저의 극도로 짧은 펄스 지속 시간 덕분에 열 영향 영역을 최소화하여 시료 전처리가 효율적입니다.
결국 아티팩트 없이 시료 전처리 시간을 며칠 또는 몇 시간에서 몇 분으로 단축할 수 있죠. 레이저 전처리는 탄화규소 및 유리를 포함한 여러 재료에 적합합니다.