ZEISS 기술적 청결 솔루션

근본 원인을 파악하고 올바른 더 빠르게 올바른 결정하기

더 빠른 표준 분석
단 한 번의 필터 스캔으로 반짝이는 금속 입자 감지

더 빠른 입자 분류
매끄러운 워크 플로우에 광학 현미경 검사와 전자 현미경 검사 결합하세요

더 빠른 의사 결정
중요 입자의 화학 성분을 분석하여 오염원을 파악하세요

더 빠른 문서화
한 번의 작업 단계로 모든 최신 업계 표준을 충족하는 청결도 보고서를 작성하세요

더 빠른 입자 검사
통합 머신러닝 알고리즘을 통한 검증

기술적 청결이란 무엇인가요?

기술적 청결은 특히 전기 공학이나 자동차 산업과 같이 부품을 제조하는 분야에서 중요한 역할을 합니다. 입자에 민감한 지점에서 오염이 발생하면 기능 장애 또는 오작동으로 빠르게 이어질 수 있습니다. 시스템의 잔여 먼지가 너무 적어서 손상이 발생하지 않으면 기술적으로 깨끗한 것으로 간주합니다.

기술적 청결은 다음 분야에서 특히 중요합니다:

자동차 및 전기 자동차
의료 산업
기계 공학
적층 가공
전기 공학 및 배터리 생산
광학 산업
오일 분석 및 유압

기술적 청결이 중요한 이유는 무엇인가요?

기술 발전으로 인해 많은 산업에서 점점 더 복잡한 시스템을 필요로 하고 있습니다. 1990년대 초부터 자동차 산업에서 부품의 오염으로 인한 피해가 증가했습니다. 곧 절차를 표준화해야 한다는 것이 분명해졌습니다. "기술적 청결도 테스트 - 기능 관련 자동차 부품의 입자 오염"으로도 알려진 이른바 "VDA 19 지침"은 2004년에 발표되었으며, 2015년에 VDA 19 Part 1로 개정되었습니다. 국제적 수준에서는 ISO 16232(2007)가 표준 규정 집합을 형성합니다. 2010년의 VDA 19 Part 2에는 어셈블리 생산의 청결 관련 방향에 대한 규칙 지침이 포함되어 있습니다.

VDA 19 Part 1은 다양한 유형의 오염을 정확하게 정의합니다. 이러한 정의에 따라 청결도 분석 및 기타 기술적 청결 프로세스를 통해 오염을 감지하고 적절한 결정을 내릴 수 있습니다. 목표는 부품의 잔여 먼지를 미리 방지하는 것입니다.

입자	섬유
고체 금속 플라스틱 미네랄 수지 소금	길이와 폭의 비율은 1:20입니다 섬유 폭: ≤ 50µm

공정에 위험한 오염을 특성화하기 위한 상관 입자 분석

공급업체, 제조업체 및 최종 사용자는 지속적으로 더 높은 품질 기준을 기대합니다. 따라서 생산 공정 전반에 걸쳐 기능적으로 관련된 부품 및 구성 요소의 오염을 배제하기 위해서는 혁신적으로 설계된 청결 프로세스가 필수적입니다. 기술적 청결을 위한 ZEISS 솔루션은 오염의 근본 원인을 파악하고 보다 신속하게 올바른 결정을 내릴 수 있도록 지원합니다.

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성공 사례에서 오스트리아의 대형 엔진 제조업체가 10년 전에 기술 청결에 대한 기준을 도입한 이유를 알아보세요. 그리고 이 과정에서 ZEISS EVO 스캐닝 전자 현미경이 핵심적인 역할을 하는 이유도 알아봇요.

서울에서 김서방 찾기와 같은 어려운 과제
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근본 원인을 어떻게 파악하나요? ZEISS 기술적 청결 솔루션
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ZEISS ZEN core 기술 청결도 분석에서 물체 분류의 생산성을 높이세요.
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추출 및 여과를 통한 ZEISS 기술 청결 워크 플로우

기술적 청결 솔루션으로 프로세스 최적화

최대의 청결도 - 최고의 품질

입자 오염은 모든 제품의 효율성, 기능 및 수명을 저해하는 적입니다. 예를 들어, 연구에 따르면 유압 및 오일 충전 시스템의 주요 고장 원인은 미립자 오염으로 인한 것으로 나타났습니다. 오일 분석은 유지보수 비용을 최소화하고 기계 가동 시간을 개선하는 데 도움이 됩니다.

제조업계의 요구에 맞춘 맞춤형 솔루션

ZEISS 기술 청결 솔루션은 자동차 제조업체 및 공급업체와 협력하여 개발되었습니다. 이들은 쉽고 직관적으로 사용할 수 있는 고성능 입자 식별 및 특성화 시스템에 대한 구체적인 요건을 가지고 있었습니다.

그 결과, ZEISS 솔루션은 사용이 간편하고 여러 장소와 모든 제조 또는 산업 환경에 배치할 수 있으며 현미경 전문가가 아닌 사용자도 적용할 수 있습니다.

ZEISS 기술적 청결 솔루션은 확립된 산업 표준에 따라 작동합니다:

구성 요소의 기술적 청결도	오일 청결도	제조 공정에서 의료 기기 청결 유지
VDS 19.1	ISO 4406	VDI 2083, part 21
VDA 19.2(일리그 값)	ISO 4007
ISO 16232	DIN 51455
	SAE AS 4059

한 번의 작업 단계로 모든 관련 데이터가 포함된 청결도 보고서를 작성하기 위해 ZEISS 현미경과 HYDAC 추출 장비는 원활한 워크 플로우에서 데이터를 하나의 보고서로 교환하여 생산성을 높일 수 있습니다. ZEISS가 HYDAC 기기의 데이터를 보고에 통합하는 방법을 당사의 매거진에서 자세히 알아보세요.

ZEISS One-Scan 기술로 50% 더 빨라졌습니다

혁신적인 ZEISS 소프트웨어 솔루션으로 효율성 향상

입자의 정량화 및 크기 측정 외에도 기술적 청결도 기준은 금속성 광택 입자와 비광택 입자를 구분해야 합니다. 기존 방법으로는 편광판과 분석기 방향을 매번 다르게 하여 필터 멤브레인을 두 번 스캔해야만 이 구분이 가능했습니다. 수상 경력에 빛나는 ZEISS One-Scan 기술을 사용하면 이제 단 한 번의 스캔으로 결과까지 걸리는 시간을 최대 50% 단축할 수 있습니다. 2021년 3월, ZEISS는 One-Scan 기술로 프라운호퍼(Fraunhofer) 제조 엔지니어링 및 오토메이션 연구소(IPA)의 REINER에서 1위를 수상했습니다! 프라운호퍼(Fraunhofer) 순수 기술상.

ZEISS ZEN core 기술적 청결 분석을 통한 평가에는 다음이 포함됩니다:

완전 자동 평가
인공물의 크기, 길이, 면적 및 좌표에 대한 정보
금속성 광택 입자와 비금속성 광택 입자를 한 번의 필터 멤브레인 스캔으로 구분할 수 있습니다
제품 지문이 있는 포인트 클라우드로서 크기 등급으로 구분된 인공물

생산성 극대화. 기술적 청결 분석으로 실현합니다

ZEISS 소프트웨어는 머신 러닝으로 입자 분류를 가속화합니다.

기술적 청결은 산업용 현미경 검사 분야의 ZEN core 소프트웨어 포트폴리오의 일부입니다. 입자 분류를 최적화하기 위해 ZEISS는 이제 머신 러닝을 기반으로 사전 학습된 세 가지 모듈이 포함된 기술적 청결도 분석(TCA) 솔루션을 ZEISS ZEN core 사용자에게 제공합니다. 이 모듈은 분석된 이미지의 측정된 파라미터를 기반으로 입자를 분류하는 기능을 제공합니다. 샘플은 사용자 및 고객이 추가로 학습시킬 수 있는 세 가지 사전 학습된 머신 러닝 모델을 통해 분석됩니다. 샘플은 그레이 스케일 파악을 통해 분석되고 물체 분류를 위해 사전 학습된 머신 러닝 모델이 새로운 TCA 작업 템플릿에서 백그라운드에서 실행되며, 기존 입자 측정 결과를 기반으로 유형 분류가 동시에 확인됩니다. 머신 러닝 알고리즘을 통한 유형 분류의 추가 확인은 크기, 모양, 강도, 유형 분류 등에 대한 고전적 분석으로 얻은 입자 결과를 '살펴보고' 다양한 특징을 상호 연관성이 없는 수많은 의사 결정 트리로 결합합니다. 결과는 객체 분류 모델에 학습된 분류를 사용하여 각 의사 결정 트리에 대해 개별적으로 평가됩니다. 그 결과 입자 유형을 자동으로 예측할 수 있습니다.

ZEISS 기술 청결도 물체 분류로 생산성을 높이세요:

어두운 금속 부품의 오분류 최대 50% 감소 및 시간 최대 25% 절약

물체가 분류된 입자 이미지와 분류되지 않은 입자 이미지 비교: 예를 들어 샘플이 10개일 경우 하루 3.5시간을 절약할 수 있습니다.

듀얼 카메라 지원

금속 조직학과 기술 청결도 분석 등 다양한 분석 사용 분야가 있는 고객과 실험실은 단일 워크 플로우에서 다양한 카메라 모드, 편광 및 컬러 보기를 필요로 합니다. Axiocam 705pol과 Axiocam 컬러 카메라가 포함된 ZEISS 듀얼 카메라 지원은 현미경 사용자에게 다음과 같은 이점을 제공합니다:

편광 채널의 실시간 전환으로 금속 입자 또는 밝게 빛나는 금속 조직학적 샘플을 더 잘 시각적으로 식별할 수 있습니다
입자를 빠르게 검사하고 가능한 근본 원인을 파악할 수 있는 라이브 컬러 보기. 금속 조직학 샘플 분석 및 검사를 위한 컬러 카메라.

다음과 같은 혜택을 누릴 수 있습니다:

다양한 애플리케이션을 위한 완벽한 유연성
두 카메라 간 직접 전환
생산성 향상 및 프로세스 안전성을 높여 더 나은 결과물 제공

표준을 넘어서는 성능으로 기술적 청결도를 확인하세요

ZEISS 포트폴리오는 입자 검출과 분류를 결합하여 입자를 찾을 뿐만 아니라 오염의 출처에 따라 분류하는 매우 효율적인 워크 플로우를 지원합니다. ZEISS를 사용하면 단일 작업 프로세스에서 광학 현미경과 전자 현미경의 데이터를 결합하여 추가 정보를 얻을 수 있습니다. 이러한 방식으로 오염의 원인에 대한 근거 있는 통찰력을 확보하세요.

ZEISS를 통한 포괄적인 기술적 청결

광학 현미경 시스템

잠재적 오염 위험 인식

입자를 수량, 크기 분포 및 형태별로 분류하고 금속과 비금속 입자 및 섬유를 2μm까지 구분할 수 있습니다. 업계 표준에 따라 청결도 보고서를 작성하세요.

상관 입자 분석

고급 분석 워크 플로우 구축

단일 워크 플로우에서 광학 현미경과 전자 현미경의 데이터를 결합하는 상관 현미경 검사를 통해 공정에 중요한 입자를 특성화하고 중요 입자를 식별합니다.

전자 현미경 검사 및 EDS 시스템

오염원 찾기

입자의 형태학적 특성을 측정하고 완전 자동화된 원소 분석을 사용하여 화학 성분별로 입자를 분류합니다. 전자 현미경용 입자 분석 소프트웨어인 ZEISS SmartPI는 현미경 제어, 이미지 처리 및 원소 분석을 단일 애플리케이션으로 결합하여 입자의 검출, 분석 및 분류를 자동화합니다.